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顯微鏡，激光共聚焦，電鏡，x射線，激光捕獲顯微切割，熒光成像系統(tǒng)，DNA/RNA合成儀，半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備，生命科學(xué)儀器，光刻機(jī)，
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原子層蝕刻設(shè)備
產(chǎn)品型號(hào)：
更新時(shí)間：2025-10-20原子層蝕刻設(shè)備介紹：
原子層蝕刻設(shè)備ALE）是一種的蝕刻技術(shù)，可精準(zhǔn)的控制其蝕刻深度。隨著元件尺寸的進(jìn)一步減小，需要進(jìn)一步的使用ALE才能達(dá)到其所需的精度。
這就引起了人們對(duì)被稱為原子級(jí)蝕刻（ALE）的技術(shù)的關(guān)注，該技術(shù)克服了原子級(jí)常規(guī)蝕刻的局限性?；峨姖{的原子層蝕刻是氣體以定量注入和離子轟擊的周期性蝕刻過程，並具有去除單個(gè)薄膜層、極低的損壞率等優(yōu)點(diǎn)。
SYSKEY的系統(tǒng)可以精準(zhǔn)的控制製程氣體與電漿製程，並提供高精準(zhǔn)度的薄膜蝕刻。
原子層蝕刻設(shè)備參數(shù)：
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 腔體 |
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| 配置和優(yōu)點(diǎn) | 選件 |
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